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随着英伟达Vera Rubin出货节点日益临近 ,存储巨头围绕HBM4市场份额的霸权争夺战已然打响。
三星率先亮出底牌 。据ZDNet Korea近日报道,三星电子决定增大其第六代10nm级DRAM芯片的尺寸,从而同时提升DRAM和HBM4的性能。据悉,芯片尺寸的扩大能保证TSV(硅通孔)工艺的稳定性 ,HBM4由于I/O数量增加,需要在DRAM中设置更多的TSV孔。
当三星的DRAM拥有更大的可用面积,TSV布局方面即可获得更大的灵活性 ,如降低了TSV密度,便于散热并确保可靠性。
问题在于,增大DRAM尺寸或意味着利润缩水——因将减少每片晶圆可生产的芯片数量 。此外 ,三星电子在HBM4核心芯片中采用了领先竞争对手一代的1c DRAM技术,然而1c DRAM的良率仍然只有60%左右,其正集中精力提高良率 ,同时抢先为英伟达大规模生产HBM4。
不过,三星对其尖端工艺充满信心,其在日前举行的HBM4量产启动仪式上宣称:“从HBM4开发之初 ,我们就设定了超越JEDEC(联合电子设备工程委员会)标准的性能目标 ”,并且“从量产之初,我们就确保了稳定的良率和行业领先的性能,而无需重新设计。”
资料显示 ,JEDEC最初仅将HBM4的性能标准设定为8 Gbps,但内存供应商最近将其提高到11.7 Gbps,并与英伟达一起进行了测试 。
横向对比来看 ,针对HBM控制器的基础芯片,三星采用自家晶圆代工厂的4nm工艺进行量产,相比SK海力士采用台积电工艺的12nm工艺有了显著提升。此外 ,SK海力士和美光在其HBM4芯片中使用了与HBM3E相同的1b DRAM芯片。
在HBM4销售上,三星已取得些许优势 。根据市场调查机构Omdia的报告,三星电子2025年第四季DRAM市占率达36.6% ,SK海力士以32.9%屈居第二,主要得益于三星第六代高带宽内存HBM4的销售增长。
另一方面,SK海力士在量产进度上进行追赶。据此前报道 ,SK海力士将其位于清州的“HBM4专用工厂”M15X工厂的量产计划提前了四个月,于本月开始量产用于HBM4的1b DRAM晶圆 。该工厂初期规划约为1万片,预计到今年底将提升至数万片。
根据TrendForce集邦咨询最新HBM产业研究,预期英伟达Rubin平台量产后 ,将带动HBM4需求。目前三大存储器原厂的HBM4验证程序已进展至尾声,预计将在2026年第二季陆续完成 。其中,三星凭借最佳的产品稳定性 ,预期将率先通过验证,SK海力士、美光随后跟上,可望形成三大厂供应英伟达HBM4的格局。
(文章来源:科创板日报)
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